在线性阵列，圆周阵列，镜向特征，及镜向阵列中的原始特征称为源特征。您可以编辑源特征。

1. 用右键单击一个阵列或镜向实例，然后选择编辑源特征。
2. 改变所需的参数。
3. 单击 。

您可使用框和套索选取以添加或移除阵列中要跳过的实例。

框和套索选取可用性：

阵列类型	零件特征	阵列零部件	装配体特征
圆形
曲线驱动
填充
线性
阵列驱动
草图驱动	要跳过的实例不可用		要跳过的实例不可用

该选择对草图阵列无效。

要使用实例窗口选择以跳过：

1. 创建或编辑阵列特征。
2. 在 PropertyManager 中，展开要跳过的实例。
   选择星球显示所有阵列实例。
   
3. 在图形区域中，右键单击并单击套索选取，然后选择要跳过的实例。

   星球变为白色，表示它们已跳过阵列。 实例在要跳过的实例下列出。

   

4. 单击 。
   • 如果选择包含跳过和非跳过的实例，则软件将从其当前状态切换实例。 跳过的实例变成非跳过的实例，反之亦然。
   • Shift + 仅选择将实例添加到要跳过的实例。
   • Alt + 仅选择将实例从要跳过的实例中移除。
   • 实例的选择星球必须完全在选择区域内以从要跳过的实例中添加或移除。

对于多实体零件，您可生成包括一些或所有您用来生成原有多实体零件阵列的多实体零件的阵列。您可使用任何阵列，如线性、圆周、草图驱动的阵列，等等。

在多实体零件环境中，对于阵列的阵列，您与在单一实体环境中一样的选项。例如，您可使用一个以上方向、跳过实例，等等。

从现有线性阵列阵列。选择了一些实体和单一方向。

生成阵列的阵列：

1. 单击特征工具栏中的一阵列工具，或单击插入 > 阵列/镜向，然后选择一阵列工具（线性、圆周或曲线驱动的阵列）。您还可以使用用 X-Y 坐标（由表格驱动的阵列）或草图点生成的阵列。
2. 执行以下操作之一：
   • 对于单一实体阵列，在 FeatureManager 设计树中选取阵列特征，或在模型中的一个阵列实例上选择一个面。
   • 对于多实体零件阵列，在要阵列的实体 下，从现有阵列中选择您想包括在新的阵列中的单独的实例。
3. 根据您生成的阵列类型继续执行。

在阵列中更改间距和特征尺寸允许您生成更多复杂阵列。

1. 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。
2. 在 PropertyManager 中，单击要改变的实例。
3. 要为方向 1 添加间距增量，在方向 1 增量下的方向 1 间距增量 中输入值。 值可为正值或负值。

   如果值为正值，软件会为每个实例累积增加间距。 如果值为负值，阵列中每个实例之间的间距会累积减少。

   例如，如果实例之间的间距为 50mm，且您为方向 1 间距增量添加 20mm，则第二个实例与第一个实例相距 70mm，第三个实例与第二个实例相距 90mm，依次类推。

   您还可在间距增量 标注中更改间距增量值。
4. 要为方向 1 添加特征尺寸，在图形区域单击源特征尺寸。
   一个表格会出现在框中。
5. 在增量下输入值。 增量会更改“方向 1”中每个实例的尺寸。

   您为特征尺寸指定的增量会更改每个实例的大小。

   在以下示例中，源特征为切除拉伸。 源特征高度为 8mm，且高度尺寸的增量为 10mm。 后续实例高度会增加至 18mm、28mm、38mm 和 48mm。

   

6. 如有必要，为方向 2 增量重复上述步骤。
7. 单击 。

您可修改单个阵列实例。

1. 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击编辑特征 。
2. 在实例标记上，左键单击并选择已修改的实例。

   在图形区域中显示标注并以阵列格式（例如 (5,1)）列出实例。

3. 在标注中键入一个值以覆盖间距和特征尺寸，然后按 Enter

   实例标记的大小和颜色会更改以表明实例已修改。 PropertyManager 中已修改的实例框也会列出实例。

   单个实例的覆盖值仅保留在实例标注中。 PropertyManager 中变化的实例框中的值仅反映阵列增量。
4. 要编辑覆盖值，左键单击并选择编辑已修改的实例。

您可以使用 PropertyManager 中已修改的实例框移除修改实例并恢复至其初始状态。

1. 在 FeatureManager 设计树中，选择 Lpattern 然后单击 编辑特征 。
2. 在 PropertyManager 的 已修改的实例 下，右键单击实例并选择 删除
   要移除所有实例覆盖，右键单击已修改的实例框并选择清除选择。
3. 单击 。